JACIイベント案内・申し込みサイト

電子情報技術部会ナノフォトニクスエレクトロニクス交流会講演会
講演会タイトル：「NIL(Nanoimprint Lithography)が挑む先端半導体リソグラフィー」

プログラム（講演時間は質疑応答を含みます）
10:00~12:00　伊藤　俊樹　様　ご講演

連絡事項
・講演会開場時間は下記となります。
　　JACI会議室聴講：9:40
　　オンライン聴講：9:50
・JACI会議室の定員は30名です。
・感冒症状がある方、発熱されている方は会議室への参加をご遠慮ください。
・やむを得ず個別イベントの開催を中止あるいは変更する場合は、
　お申し込み者に別途個別にご連絡いたします。

※申込締切　1月16日(木)　12:00
　新規ユーザーは申込締切2営業日前までにユーザー登録申請をお願いします。

• 講師：伊藤　俊樹（キヤノン株式会社　半導体機器事業部 主幹）
• 演題：半導体デバイス製造用ナノインプリントリソグラフィの開発状況
• 時間：10:00　～　12:00
• 要旨：半導体デバイス製造への適用を目指して、インクジェット方式のUVナノインプリント技術を開発した。先端リソとして普及が進むEUVに対抗するために、デュアルダマシン工程の3Dパターニングなど、複雑なリソグラフィ工程の統合を提唱する。3D NANDに始まる応用デバイスをDRAMやLogicへも拡大するために必要な欠陥低減対策として、二酸化炭素雰囲気技術及びドロップ結合型レジストを紹介する。