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20261116電子情報技術部会ナノフォトニクスエレクトロニクス交流会講演会
※ナノフォトニクス・エレクトニクス交流会は、最先端技術動向を把握し、化学関連産業とエレクトロニクス産業間の交流と連携の風土を醸成していくことを主眼としています。（https://www.jaci.or.jp/about/page_10_04.html）

講演会テーマ：「極限状態下でのエレクトロニクス材料の創製」
講演会概要：脱炭素社会の実現や情報通信技術の高度化に伴い、エレクトロニクス材料にはさらなる高性能化・高機能化が求められている。その実現に向けて、超高圧・超高温環境や超臨界流体などの極限状態を活用した材料創製は、新たな機能や物性を発現させる有力なアプローチとして注目されている。本講演会では、極限状態下でのエレクトロニクス材料創製に関する最新の研究動向、実用化に向けた課題、および今後の研究開発の方向性について、その分野の識者から現状と今後についてご講演いただく。

プログラム（講演時間は質疑応答を含みます）
14:00～15:20「高圧合成による機能性遷移金属酸化物の探索」
　　東京科学大学　総合研究院　教授
　　東　正樹　様
15:30～16:50 「流通式水熱法による金属酸化物ナノ粒子の精密制御・大量合成」
　　東北大学 国際放射光イノベーション・スマート研究センター　准教授
　　横　哲　様
16:50～17:50 懇親会

連絡事項
・講演会開場時間は下記となります。
JACI会議室聴講：13:40
オンライン聴講：13:50
・JACI会議室の定員は25名です。
・感冒症状がある方、発熱されている方は会議室への参加をご遠慮ください。
・やむを得ず個別イベントの開催を中止あるいは変更する場合は、お申し込み者に別途個別にご連絡いたします。

※申込締切　11月9日(月)　12:00
新規ユーザーは申込締切2営業日前までにユーザー登録申請をお願いします。

• 講師：東　正樹（東京科学大学　総合研究院 教授）
• 演題：高圧合成による機能性遷移金属酸化物の探索
• 時間：14:00　～　15:20
• 要旨：高圧合成法は新物質探索の有力な手段で、超硬材料から超伝導体まで、様々な新物質が発見されている。また、近年は放射光Ｘ線や中性子線を用いて圧力下の反応をその場観察することも可能である。講演者の研究から、オキシクロライド超伝導体の単結晶育成や、低消費電力不揮発メモリに繋がると期待される強磁性強誘電体、半導体の熱問題解決を目材した負熱膨張材料の開発の現状を紹介する。

• 講師：横　哲（東北大学　国際放射光イノベーション・スマート研究センター 准教授）
• 演題：流通式水熱法による金属酸化物ナノ粒子の精密制御・大量合成
• 時間：15:30　～　16:50
• 要旨：本発表では、流通式水熱法による金属酸化物ナノ粒子合成プロセス開発に関する研究成果を紹介する。最近実現された、金属酸化物の超微細制御および連続合成について説明する。併せて、本手法により可能となった金属酸化物ナノ触媒やナノ酸素キャリア、新規ナノ流体への応用研究の実例も紹介する。